首页 期刊 物理化学学报 用CR传输线模型研究涂层/金属体系阻抗谱 【正文】

用CR传输线模型研究涂层/金属体系阻抗谱

作者:孙秋霞; 张鉴清; 林昌健 浙江大学化学系,杭州310027; 中国科学院沈阳金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110015; 厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室,厦门361005
电化学阻抗谱   有限长传输线型等效电路   cr电路   物理意义  

摘要:根据CR传输线模型和QR电路之间的关系,建立了拟合其初值的计算方法,借助Z—View软件,可求得各元件精确值.根据电容(Ci)和电阻(Ri)随特征频率(f*)的分布,推导了元件相对增量与恒相位角元件(Q)指数参数n的关系,结果表明,当n小于0.5时,Ci比Ri增加得更快,从新的角度说明了n的物理意义及其和界面脱层之间的关系.作为应用实例,拟合了不同特征的电化学阻抗谱,分析了有机涂层/金属腐蚀体系阻抗变化的具体过程,区分了点蚀和脱层因素对阻抗谱的影响,从高阻抗体系同时得到了与不同空隙率有关的涂层电容和电阻值,并根据涂层体系的不均匀特征探讨了模型结构的物理意义.

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