首页 期刊 微处理机 多层NMOS技术对I/O接口的ESD保护作用 【正文】

多层NMOS技术对I/O接口的ESD保护作用

作者:李翠; 柳海生; 袁晓岚 东北微电子研究所; 沈阳; 110032; 加野麦克斯仪器(沈阳)有限公司; 沈阳; 110136
esd保护  

摘要:本文提出了NMOS堆栈触发控制硅整流器(SNTSCR)作为ESD箝制工艺用来保护CMOS芯片的I/O端.与没有使用厚栅氧化层来克服栅氧化可靠性的CMOS工序充分兼容.在0.35μmCMOS工序中,有不同参数布局的ESD SNTSCR工艺已经研究过.带有120μm NMOS堆栈沟道的I/O端的人体模式ESD(HBM ESD)电平可以借助只有60μm/0.35μm的SNTSCR由2ky提高到8ky.

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