摘要：利用金属有机物化学气相沉积系统在玻璃衬底上沉积氧化锌薄膜，在约160℃的低温生长条件下，通过改变n型掺杂气体硼烷的流量来调制薄膜电阻率和光学透过率。基于Hall效应测试分析，研究了掺杂剂硼烷流速对氧化锌薄膜电阻率，载流子浓度，Hall迁移率以及光学透过率的影响，此外还研究了薄膜电学特征参量随薄膜厚度的变化规律。经过一系列优化实验，在玻璃衬底上能够获得低温生长的氧化锌薄膜电阻率约2×10^-3Ω·cm，光学透过率的截止波长发生蓝移，从380nm延伸到近340nm。

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