摘要：使用动电位极化曲线、电化学阻抗谱（EIS）技术和电容电位法（Mott—Schottky）研究了430不锈钢在不同Cl^-浓度下的腐蚀行为，并结合点缺陷模型（PDM）计算了钝化膜上点缺陷的密度及扩散率。结果表明：Cl^-浓度的增大，钝化膜上自腐蚀电流增加，弥散系数及膜电阻减小，点蚀加剧；在-0．5～0．5V电位区间，钝化膜表现为n型半导体性质，膜中点缺陷为氧空位和阳离子间隙，溶液浓度的增加，会造成钝化膜内点缺陷浓度和扩散系数的增大。本实验对Cl^-破坏钝化膜的微观机理研究有一定参考价值。

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