摘要:为改善钙钛矿层与金属电极的接触性能,在铅片表面原位制备CH3NH3PbI3钙钛矿薄膜,并研究其光电性能.借助X射线衍射、扫描电镜和光电流-电压曲线测试对薄膜的微观形貌、晶体结构和光电性能进行了分析.结果表明,NaI和CH3NH3I的浓度对薄膜的结构和光电性能影响显著,当NaI和CH3NH3I的浓度分别为0.20mol·L^-1和0.30mol·L^-1时,薄膜光电性能最好,其开路光电压可达1275mV,光电转换效率为0.01%.
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
热门期刊服务
单片机与嵌入式系统应用