首页 期刊 沈阳工业大学学报 等离子喷涂设备抗干扰问题的研究 【正文】

等离子喷涂设备抗干扰问题的研究

作者:屈伸; 王赫莹; 赵春元 沈阳工业大学; 材料科学与工程学院; 沈阳; 110023; 沈阳工程学院; 机械系; 沈阳; 110036
等离子喷涂设备   高频干扰   plc自动控制   稳定性   可靠性  

摘要:等离子喷涂设备的高频引弧器是对PLC系统和设备元件构成强大威胁的干扰源,阐述了高频干扰的主要现象,探讨了解决干扰的一些措施.实验发现,等离子喷涂设备在起弧瞬间的工作电流骤升至近千安培.另外强电场干扰也是导致设备不能稳定工作的一个因素.实验表明,将高频电源与共用电源分离、改变控制电路以及在PLC和硅触发器电源线路上加滤波器等措施有效地抑制了高频引弧器对PLC系统和设备元件的破坏性干扰,确保了PLC系统实时控制的稳定性和可靠性.

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