摘要：为了降低PLZT铁电薄膜的结晶温度,使用溶胶-凝胶法配合紫外光辐照的光化学工艺,在单晶硅基板上低温制备了PLZT铁电薄膜。经过紫外辐照过的凝胶膜可以在400℃促使PLZT获得良好的铁电性能,剩余极化强度为12.3μC/cm2。紫外辐照过的薄膜可以在低温下有效地分解金属醇盐,形成活性金属氧化物,保证材料低温结晶。辐照过程中产生的臭氧可以带走薄膜中的残炭,使得薄膜具有良好的铁电性能。低温制备的PLZT铁电薄膜获得了稳定的光电流和较好的光电转化效率。

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