首页 期刊 人工晶体学报 SiC晶体生长中气相组分输运特性 【正文】

SiC晶体生长中气相组分输运特性

作者:李源; 石爱红; 孙彩华; 马生元 青海民族大学交通学院; 西宁810007; 青海民族大学化学化工学院; 西宁810007
碳化硅   输运特性   数值模拟   物理气相传输  

摘要:针对物理气相传输(PVT)法生长碳化硅(SiC)晶体,建立了一个二维生长动力学模型研究SiC生长腔内气相组分输运特性,该模型考虑了氩气与气相组分之间的流动耦合,Stefan流和浮力影响。研究表明:在压力较低的情况下,自然对流对气相组分的输运过程影响很小,可以忽略,而当压力增高时,自然对流强度显著增大,不可忽略。其次,随着生长温度升高对流的作用增强,生长腔内输运过程由扩散向对流转变,最终对流主导组分的输运过程。随着压力升高对流作用减弱,扩散为气相组分主要输运方式。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅