首页 期刊 能源工程 a-Si:H薄膜的再结晶技术发展概述 【正文】

a-Si:H薄膜的再结晶技术发展概述

作者:冯团辉; 卢景霄; 张宇翔; 郜小勇; 王海燕; 靳锐敏 郑州大学; 教育部材料物理重点实验室; 河南; 郑州; 450052
再结晶   激光晶化   炉子   金属   快速热退火  

摘要:论述了非晶硅薄膜的主要再结晶技术,包括传统的炉子退火、金属诱导晶化、微波诱导晶化、快速热退火和激光晶化.着重指出了各种晶化技术已取得的研究成果、优缺点、有待进一步研究的内容及其在多晶硅薄膜太阳电池工业生产中的应用前景.

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅