摘要：本文基于 Smartphone 透过率提升项目为背景,从 TFT像 素 区 材 料 出 发 , 研 究 了 材 料 对 透 过 率 的 影 响 . 利 用PECVD（Plasma一enhanced chemical vapor deposition）法在玻璃基板上进行镀膜,通过对工艺参数Power.气体流量.镀膜压力.电极间距进行调整,进行透过率测试,找出各工艺参数对氮化硅膜层透过率的影响规律。

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