为了提高汽车用316L不锈钢表面磁控溅射TaN涂层的耐磨性能,研究分析了不同N2流量下TaN涂层的组织和性能。结果表明:通入的N2流量很小时,形成的TaN涂层表面相对粗糙,形成了“山脊状”的团聚颗粒;N2流量为5 mL/s时,形成的TaN涂层表面相对平坦,具有“菜花状”的小尺寸团聚晶簇。随着N2流量的上升,将使吸附原子的活性减小,由于(110)晶面属于bcc结构的密排面,对应的能量最低,这使得(110)晶面可以包含更多低能量原子。当N2流量升高后,涂...
作者:贺春林; 高建君; 王苓飞; 马国峰; 刘岩; 王建明 期刊:《材料导报》 2018年第12期
以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密。TiN为fcc结构,其择优取向为(111)面。随N2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先...
作者:自兴发; 叶青; 刘瑞明; 程满; 黄文卿; 何永泰 期刊:《材料导报》 2017年第16期
采用氧化亚铜(Cu2O)陶瓷靶,利用射频磁控溅射沉积法在氮气和氩气的混合气氛下制备了N掺杂Cu2O(Cu2O∶N)薄膜,并在N2气氛下对薄膜进行了快速热退火处理,研究了N2流量和退火温度对Cu2O∶N薄膜的生长行为、物相结构、表面形貌及光电性能的影响。结果显示,在衬底温度300℃、N2流量12sccm条件下生长的薄膜为纯相Cu2O薄膜;在N2气氛下对预沉积薄膜进行快速热退火处理不影响薄膜的物相结构,薄膜的结晶质量随退火温度(〈450℃)的升高...
作者:阎有花; 刘迎春; 方玲; 赵海花; 李德仁; 卢志超; 周少雄 期刊:《功能材料》 2007年第A01期
采用硫化法制备出具有多晶结构的光吸收层CuInS2薄膜,研究了硫源处N2流量对CuInS2薄膜微结构的影响。利用SEM和EDS观察和分析了它们的表面形貌和成分,采用XRD表征了薄膜的结构。结果表明:N2流量增大到600ml/min制得具有黄铜矿结构且沿(112)晶向择优生长的CuInS2薄膜,晶粒尺寸为230nm。
简单地介绍了国内外铝合金熔体除氢的技术方法;以5052铝合金为研究对象,分析了熔炼温度对氢含量的影响,并对试验所采用的熔剂法(C2Cl6)和固定喷吹法(N2喷吹)的工艺参数进行了研究,得出最佳熔炼工艺参数:C2Cl6精炼剂使用量为熔液质量的3%,N2流量为2.0L/min。
作者:翟化松 王坤鹏 余春燕 翟光美 董海亮 许并社 期刊:《无机化学学报》 2013年第10期
采用化学气相沉积法(CVD)在Si(100)衬底上以Ni为催化剂,金属Ga和NH3为原料合成了GaN微纳米结构,并研究了N2流量对产物GaN的形貌及光学和电学性能的影响.利用场发射扫描电子显微镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、X-ray能谱仪(EDS)、光致发光谱(PL)和霍尔效应测试仪(HMS-3000)等测试手段对样品的形貌、结构、成分、光学和电学性能进行了分析.结果表明,随着N2流量的增加,产物GaN的形貌发生了由微米棒到蠕虫...
作者:吴劲峰 何乃如 邱孟柯 吉利 李红轩 黄小鹏 期刊:《功能材料》 2013年第01期
采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P(111)单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、三维轮廓仪、X射线衍射仪(XRD)、X射线电子能谱仪(XPS)、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查。结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的沉积速率降低,Al/Ti比率先升高后迅速降低;薄膜主要由TiN立方晶构成,且随N2流量的升高晶粒尺寸减小,柱状晶结构变疏松。在氮气流量为20mL/min时,薄膜具有最高的硬度及结合...