作者:于琳; 韩新海; 王冠中; 揭建胜; 廖源; 余庆选; 方容川 期刊:《量子电子学报》 2004年第01期
本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜,并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析,X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比,F/Mg原子比在1.9~2.1之间,接近于体材料;在可见光波段其光学透过率为60%~80%,在红外波段更是达到了90%以上,由KK变换计算MgF2的折射率大约为1.39,也接近于体材料的折射率1.38。
采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF2薄膜的光学性质,有利于MgF2薄膜在紫外波段的应用。
作者:尚淑珍 路贵民 赵祖欣 期刊:《强激光与粒子束》 2010年第05期
采用一种相对简单而又精确的光度法来计算弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数,为低损耗紫外薄膜的设计与实现提供了理论基础。采用JGS1型熔融石英基底,制备了MgF2与LaF3材料的单层膜,获得了JGS1型熔融石英基底及MgF2与LaF3薄膜的光学常数色散曲线。结果显示:在200 nm左右处,JGS1型熔融石英基底的吸收已经比较明显,消光系数在10^-8量级,因此,应考虑基底的弱吸收,以提高薄膜光学常数的计算精度。