作者:王从杰; 陈诺夫; 魏立帅; 陶泉丽; 贺凯; 张航; 白一鸣; 陈吉堃 期刊:《功能材料》 2018年第04期
采用磁控溅射技术首先在单晶硅衬底上溅射石墨缓冲层,然后在石墨层上溅射沉积Ge薄膜。采用快速光热退火和常规热退火对Ge薄膜后续处理。通过X射线衍射及Raman光谱测试,研究不同退火条件下薄膜的晶化情况,揭示了光子在薄膜晶化中的作用。研究表明,光量子效应对锗薄膜晶化既有晶化作用,也有退晶化作用。
影响因子:1.87
期刊级别:省级期刊
发行周期:月刊
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期刊级别:CSSCI南大期刊
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发行周期:旬刊
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