作者:曹家强; 刘保见; 杨涛; 吴畏; 陈虹羽; 王洁; 彭霄 期刊:《压电与声光》 2019年第05期
介绍了一种低温Cu—Cu扩散键合工艺技术,利用电子束蒸发Cr/Cu薄膜作为键合层制作了声光调制器。实验表明,Cr/Cu/Cu/Cr键合层厚为755.5 nm、键合温度120℃、键合压强30 MPa时,器件键合强度可达2.7 MPa。采用该工艺制作的调制器能够承受的最大电功率为8 W/mm^2,且峰值衍射效率达到70%,为研制高功率声光器件奠定了工艺基础。
作者:白翠琴; 吴平; 邱宏; 马瑞新; 王凤平; 潘礼庆; 田跃 期刊:《华北理工大学学报·自然科学版》 2004年第03期
用粉末冶金方法制备了Co90Fe10,研究了不同退火温度对电子束蒸发方法制备的CoFe薄膜磁电阻特性和微结构的影响.CoFe薄膜在优于5.5×10-4Pa的本底真空度下室温沉积在热氧化Si基片上.随后,样品在3×10-5Pa真空度下分别进行了150℃,280℃,330℃,450℃的60分钟退火处理.靶材的扫描电镜图像显示粉末冶金方法制备的靶材比较疏松.电阻率和磁电阻测量表明450℃退火处理能够明显降低CoFe薄膜电阻率和提高磁电阻变化率.X射线衍射发现沉积在热氧...
作者:寇立选; 郭兴忠; 蒋文山; 吴兰; 刘盛浦; 杨海涛 期刊:《中国陶瓷工业》 2019年第01期
在可见光及近红外光波段(400-1100nm),选用Ti3O5、SiO2、MgF2三种镀膜材料,构成10层膜系结构,利用Willey减反射膜经验公式,计算得到理论的平均反射率为0.46%,其优化后为0.5%。进一步优化膜层结构、离子源辅助镀膜和电子束蒸发装置,在低折射率基板K9玻璃表面制备10层结构的超宽带减反射膜。实测结果表明,减反射膜在400-1100nm波段的平均反射率为0.56%,满足宽波段增透膜的高透过性需求;环测表明:薄膜牢固度、机械强度、抗恶劣环境性...
<正> 0502950磁悬浮转子徽陀螺的微细加工工艺研究[刊,中]/吴校生//微细加工技术.—2004,(1).—68-72(D)介绍了磁悬浮转子徽陀螺的工作原理及有关的微细加工工艺。磁悬浮转子微陀螺的平面线圈是采用光刻、电镀及溅射等微细加工方法来实现的,微转子的加工有冲压、蒸铝沉积等方法,其中冲压能得到质量较好的微转子;上壳体采用体硅腐蚀来制作。初步的实验表明该方案是行之有效的。参9
作者:秦杨; 张荣福 期刊:《光学仪器》 2018年第03期
利用电子束蒸发在硅基底材料上沉积氟化镱(YbF 3)薄膜,并对不同沉积温度所得薄膜进行了研究。研究结果表明,在反可见透红外波段上,沉积温度对于YbF 3薄膜的物理和光学特性有较大影响。当沉积温度为150 ℃和180 ℃时,硅基底上的YbF 3薄膜的光学性能和可靠性较差;当沉积温度为220 ℃和240 ℃时,硅基底上的YbF 3薄膜具有良好的光学性能和可靠性,能适用于不同要求的薄膜产品研制。
采用ZYGO Markm一GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO:薄膜中的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO:薄膜残余应力的影响。实验结果表明,随着沉积温度及沉积速率的升高,Zr():薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力,且压应力值随着沉积温度升高而增大。同时
作者:毛思达; 邹永刚; 范杰; 兰云萍; 王海珠; 张家斌; 董家宁; 马晓辉 期刊:《光学精密工程》 2019年第07期
为了进一步提高TiO2薄膜的光学特性和激光损伤阈值,采用电子束蒸发技术在K9玻璃上沉积了单层TiO2薄膜,并用Ar/O混合等离子体对样品进行后处理。通过研究薄膜光谱特性、表面缺陷密度、薄膜表面形貌、薄膜损伤阈值以及薄膜损伤形貌,分析了等离子体后处理时间对TiO2薄膜激光损伤特性的影响。实验结果表明,随着等离子体后处理时间的增加,薄膜折射率及致密度提高,物理厚度减少,表面粗糙度下降,表面缺陷密度先减少后增加;在1064nm激光辐...
作者:李筱琳; 任豪; 罗宇强 期刊:《真空》 2004年第02期
采用低电压反应离子镀工艺制备NiO电致变色薄膜,重点研究不同的氧气分压对NiO薄膜的电致变色特性的影响,通过与普通电子束蒸发工艺制备的NiO薄膜进行物理性能和电致变色性能的比较,以及在塑料基板上制备NiO电致变色薄JP2膜的讨论,总结出低电压反应离子镀技术制备NiO电致变色薄膜的工艺和优势。
作者:尚鹏; 熊津平; 季一勤(导师); 刘华松; 刘丹丹; 庄克文; 刘旭(导师); 沈伟东 期刊:《红外与激光工程》 2018年第09期
基于SiO2/Al/SiO2三层夹层结构,结合使用多角度椭圆偏振谱和透射光谱精确反演获得了薄金属Al层光学常数,并研究分析了Al光学常数随膜层厚度的变化;在此基础上采用导纳匹配法,理论优化获得了三腔金属诱导透射紫外滤光膜,并系统分析了Al和SiO2介质匹配层制备误差对紫外滤光膜光谱性能的影响;进一步采用低温、高真空Al、SiO2薄膜生长工艺,成功获得了峰值波长位于218nm附近,峰值透过率~23.1%,带宽~32nm,在280nm、318nm波段的透过率分别...
作者:付学成; 王英; 权雪玲; 瞿敏妮; 王凤丹 期刊:《真空科学与技术学报》 2019年第05期
采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm^-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒“尖端放电”的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度极高,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。
作者:王正铎; 张跃飞; 葛袁静; 张广秋 期刊:《包装工程》 2004年第05期
利用强流电子束蒸发技术在厚度为12μm的PET基材上制备了阻隔性能优良的高阻隔SiOx薄膜.所制备的SiOx薄膜无色透明,与基材附着牢固;PET基材上的SiOx薄膜厚度不同,对水蒸气的阻隔性能不同.膜厚为340~3200nm时,阻隔性能可提高1~32倍.通过控制真空度和蒸发速率等参数可以控制SiOx薄膜的有关性能.
作者:黄蕙芬; 周新宇; 张浩康; 张修太; 王震; 钟锐 期刊:《固体电子学研究与进展》 2004年第04期
采用电子束蒸发和射频磁控溅射技术沉积了Y2O3:Eu电致发光薄膜,对膜进行了不同温度的大气热处理.用原子力显微镜(AFM)观察了Y2O3:Eu膜的表面形貌,用X射线(XRD)分析了Y2O3:Eu膜的结构,并对两种Y2O3:Eu膜的微结构和表面形貌进行了比较.结果表明,射频磁控溅射Y2O3:Eu膜与电子束蒸发Y2O3:Eu膜相比,结构更致密,表面更平滑,而且,在900°C高温热处理后,溅射膜呈现单斜晶系结构,具有该结构的Y2O3:Eu膜适宜于作电致发光膜.
作者:付学成; 张洪波; 权雪玲; 王凤丹; 李进喜 期刊:《实验室研究与探索》 2018年第03期
环形锥面蒸发源模型对沉积膜厚均匀性计算有局限性。针对电子束蒸发镀膜挖坑效应设计一种新的小圆锥体蒸发模型,提出一种新的公式计算沉积膜厚均匀性。采用相同工艺条件,不同时间蒸镀二氧化硅薄膜,验证了小圆锥体模型计算电子束蒸发挖坑膜厚均匀性准确可靠,并成功解释了随着蒸发时间的延长,均匀性变差的原因。该方法可以用于实验教学,真空镀膜工艺以及真空镀膜设备生产领域。
作者:黄磊; 陈四海; 何少伟; 史锡婷; 李敏杰; 李毅; 易新建 期刊:《半导体技术》 2005年第12期
介绍了利用蒸发方法制备金属薄膜来实现MEMS工艺中的互连,采用剥离方法制作金属互连柱.分别在剥离层为双层AZ5214负胶、聚酰亚胺(ZKPI-305ⅡD)和AZ5214负胶、ENPI剥离胶的情况下,实验并制备了金属Ni互连柱(双层AZ5214金属柱高1.86 μ m,聚酰亚胺(ZKPI-305ⅡD)和AZ5214柱高2.0 μ m,ENPI柱高1.5 μ m),都起到了较好的互连作用.
作者:崔红玲; 杨邦朝; 杜晓松; 滕林; 周鸿仁 期刊:《电子元件与材料》 2004年第12期
为了提高锰铜传感器的测压上限,须用薄膜工艺制备无机绝缘三氧化二铝薄膜来作为传感器的绝缘封装层.采用电子束蒸发法,对影响三氧化二铝薄膜的相关工艺如:蒸发原料的纯度、成膜次数进行了研究.最终得出:由99.99%的三氧化二铝原料制备出的薄膜致密性好、缺陷少,其绝缘电阻率和损耗分别可达1012Ω·cm和10-3量级;而采用多次间隙蒸发可明显改善薄膜的附着性和致密性.
作者:张晓松; 李岚; 陶怡; 徐征; 邹开顺 期刊:《光电子激光》 2005年第09期
用电子束蒸发的方法制备了ZnS:Zn,PB荧光薄膜,分别经400 ℃、600 ℃退火处理.采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光(PL)谱等,表征了ZnS:Zn,PB荧光薄膜的结构、成分、形貌和发光性能.实验表明,随着退火温度的升高,薄膜的结构程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,提高了薄膜的发光性能.因此,退火处理是提高ZnS:Zn,PB荧光薄膜发光性能的有效方法之一.
作者:邵淑英; 范正修; 范瑞瑛; 贺洪波; 邵建达 期刊:《中国激光》 2004年第06期
摘要ZrO2薄膜样品在不同的沉积温度下用电子束蒸发的方法沉积而成。利用X射线衍射(XRD)仪和原子力显微镜(AFM)检测了ZrO2薄膜的晶体结构和表面形貌,发现室温下沉积ZrO2薄膜样品为非晶结构,随着沉积温度升高.ZrO2薄膜出现明显的结晶现象,在薄膜中同时存在四方相及单斜相。薄膜表现为自由取向生长,晶粒尺寸随沉积温度升高而增大。同时发现薄膜中的残余应力随沉积温度的升高,由张应力状态变为压应力状态,这一变化主要是薄膜结...
作者:李海涛; 江亚晓; 涂丽敏; 李少华; 潘玲; 李文标; 杨仕娥; 陈永生 期刊:《物理学报》 2018年第05期
近年来,钙钛矿太阳电池(PSCs)得到了迅猛发展,而无机空穴传输材料(IHTMs)的使用可进一步降低电池的成本,提高电池的稳定性.本文通过电子束蒸发制备了Cu2O薄膜,研究了空气中退火温度及时间对薄膜组成、结构及光电性能的影响,并构筑了p-i-n反型平面异质结钙钛矿太阳电池.研究发现:由于热解作用,直接通过电子束蒸发制备的薄膜为Cu2O和Cu的混合物;而在空气中经过退火后,由于氧化作用,随着退火温度的升高,薄膜的组分由混合物转变为...
作者:郝殿中; 吴福全; 马丽丽; 闫斌; 张旭 期刊:《光子学报》 2006年第02期
采用电子束蒸发的方法,用石英晶体振荡法监控薄膜的蒸发速率,在不同工作气压下制备了ZrO2薄膜样品.在相调制型椭圆偏振光谱仪和分光光度计上对样品的光谱特性进行了测试,根据波长漂移的理论,计算出薄膜的聚集密度.结果表明,随着工作气压的降低,薄膜的聚集密度和折射率都随之增大.
作者:刘冬梅; 刘爽; 付秀华; 张静; 何松霖 期刊:《光子学报》 2015年第03期
研究了一种用于红外线治疗仪的新型滤光片.该滤光片通过对红外线治疗仪光源所发出的光进行选择性滤波,能够降低部分波段光的承载能量,提高治疗仪的安全使用性能.针对红外线治疗仪对滤光片的使用要求,选择Ti3O5和SiO2作为高低折射率材料,采用电子束加热蒸发方式,配合离子辅助淀积技术,利用石英晶控控制法对膜层厚度进行监控,通过反复优化各项工艺参量,制备出在600~1 200nm波段平均透过率高于92%,300~550nm、1 270~2 000nm波段平...