摘要:采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF2薄膜的光学性质,有利于MgF2薄膜在紫外波段的应用。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
热门期刊服务
影响因子:0.67
期刊级别:统计源期刊
发行周期:双月刊
期刊在线咨询,1-3天快速下单!
查看更多>
超1000杂志,价格优惠,正版保障!
一站式期刊推荐服务,客服一对一跟踪服务!