摘要：湿法刻蚀是一种依靠化学药液的刻蚀作用对物体进行化学清洗,被广泛应用于半导体的制造领域,具有对器件损伤小、工作设备简单等优点。本文通过对影响湿法刻蚀均匀性的因素进行充分的分析研究,提出了提高湿法刻蚀均匀性的方法,能够促进湿法刻蚀水平的不断提高。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
热门期刊服务
影响因子：0.12
期刊级别：省级期刊
发行周期：旬刊
期刊在线咨询，1-3天快速下单！
查看更多>
超1000杂志，价格优惠，正版保障！
一站式期刊推荐服务，客服一对一跟踪服务！
