首页 期刊 科学技术创新 100V,180A槽栅MO SFET设计和工艺研究 【正文】

100V,180A槽栅MO SFET设计和工艺研究

作者:丁文华; 陈骞; 刘琦; 田欢; 单长玲 西安卫光科技有限公司; 陕西西安710065
槽栅结构   工艺流程   关键技术   器件仿真  

摘要:对于100V以下低压功率MOSFET器件,要实现大电流和低导通电阻,若采用平面结构,芯片面积会很大,不能满足元器件小型化的市场需求。本文针对电压100V、电流180A、导通电阻6.4mΩ的功率MOSFET器件,着重研究了槽栅MOSFET的关键设计和工艺技术,同时利用仿真软件ISE-TCAD对器件的电学特性进行了仿真模拟,产品最终流片、封测结果:技术参数达到了设计要求,并且可以替代国外同类型号产品。

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