首页 期刊 考试周刊 深紫外光刻技术在光子晶体器件中的应用 【正文】

深紫外光刻技术在光子晶体器件中的应用

作者:刘欢; 王健; 李金凤 沈阳化工大学信息工程学院; 辽宁沈阳110142
深紫外光刻技术   深紫外曝光   光子晶体  

摘要:光刻技术越来越多地应用于制作光子器件中,使得光器件的体积大大缩小。本文作者研究了深紫外光刻工艺方法的基本原理及工艺过程,同时通过工艺参数优化,得到了较好的硅基光子晶体样品。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅