首页 期刊 科技导报 低温沉积Cu(InxGa1-x)Se2薄膜 【正文】

低温沉积Cu(InxGa1-x)Se2薄膜

作者:肖健平 何青 陈亦鲜 夏明 西南民族大学电气信息工程学院 成都610041 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 天津300071
低温沉积   结构特性  

摘要:采用多元共蒸发工艺,在Mo覆盖的碱石灰玻璃上沉积Cu(InxGa1-x)Se2薄膜。利用X射线衍射仪、霍尔测试仪研究了Cu(InxGa1-x)Se2薄膜的晶体结构、导电性质,探讨了低温沉积过程中衬底温度与薄膜结构特性、电学特性的关系。测试结果表明,衬底温度对掺杂程度、晶相单一性、晶粒尺寸、电阻率有重要影响。衬底温度低于500℃时,CIGS材料性能会出现明显劣化。

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