首页 期刊 科技创新与应用 硫化铜薄膜的发展现状及性能研究 【正文】

硫化铜薄膜的发展现状及性能研究

作者:孙赟 安徽三联学院基础实验教学中心; 安徽合肥230000
硫化铜薄膜   发展现状   性能研究   化学浴沉积  

摘要:硫化铜薄膜是一种应用前景十分广阔,具有非常优异的光电性能的光电功能薄膜材料。文章介绍了不同的化学方法制备硫化铜薄膜的优缺点,并着重研究了在化学浴沉积法制备硫化铜薄膜过程中,不同的溶液配比对硫化铜薄膜性能的影响。实验结果表明,将0.03mol/L的硫酸铜溶液与0.02mol/L的柠檬酸三钠溶液络合搅拌,然后在向混合液中加入0.06mol/L的硫脲,在温度为80℃、pH值在8.5-8.8之间,沉积2.5H条件下,能够生长出镜面光滑、致密的硫化铜薄膜。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅