首页 期刊 机械工程材料 不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征 【正文】

不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征

作者:李永乐; 黄金亮; 李飞龙; 李谦; 李丽华 河南科技大学材料科学与工程学院; 洛阳471003; 有色金属共性技术河南省协同创新中心; 洛阳471023; 阿特斯光伏电力(洛阳)有限公司; 洛阳471023
表面粗糙度   si3n4涂层   红区长度   晶粒尺寸  

摘要:以α-Si3N4和β-Si3N4粉为原料,采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si3N4涂层、β-Si3N4涂层以及二者质量比为1∶1的复合涂层,然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭,观察了涂层和硅锭的表面形貌,测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度。结果表明:α-Si3N4涂层表面粗糙不平、起伏不均匀,对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大,红区最长;β-Si3N4涂层表面较平整且起伏均匀,对应硅锭的表面粗糙度最小,晶粒尺寸较小,红区最短;复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间,对应硅锭的晶粒尺寸最小,红区长度介于二者之间。

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