摘要：为制备高质量的结晶硅薄膜,以工业玻璃为衬底,利用等离子体增强化学气相沉积工艺制备了非晶硅（α-Si）薄膜,然后分别通过固相晶化和准分子激光晶化两种工艺制备结晶硅（nc-Si）薄膜,采用激光显微拉曼光谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜等对两类结晶硅薄膜的结晶率、结晶质量和表面形貌等进行了对比分析。结果表明：采用固相晶化得到的结晶硅薄膜的结晶率约为70%,采用准分子激光晶化得到的结晶率则可达90%;当激光拉曼测试条件变化时,两种结晶硅薄膜的结晶率几乎不变,均处于稳定的晶态结构;采用准分子激光晶化制备的结晶硅薄膜显示出微弱的Si（111）结晶峰位,并具有较大的晶粒尺寸和规则的晶界分布。

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