首页 期刊 机械工程材料 采用原位反应法在石墨坩埚表面制备SiC涂层 【正文】

采用原位反应法在石墨坩埚表面制备SiC涂层

作者:游小刚 谭毅 李佳艳 大连理工大学材料科学与工程学院 辽宁省太阳能光伏系统重点实验室
原位反应   sic涂层   石墨坩埚  

摘要:通过原位反应在石墨坩埚切片表面成功制备了SiC涂层,并对其进行了循环热氧化试验,研究了SiC涂层的形成机理以及烧结温度和时间对涂层厚度的影响,并评价了涂层对提高石墨抗热氧化性及抗热冲击性的作用。结果表明:原位反应制备的SiC涂层厚度较为均匀;不同温度下的原位反应由不同的动力学过程控制;当温度接近硅熔点时,长时间加热能显著增加SiC涂层的厚度;烧结温度越高,SiC涂层的厚度越大;石墨表面的SiC涂层能够提高石墨基体的抗热氧化及抗热冲击性,且涂层厚度越大,作用越显著。

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