首页 期刊 机械工程材料 聚电解质原位生长CuS纳米粒子分子沉积膜的制备及表征 【正文】

聚电解质原位生长CuS纳米粒子分子沉积膜的制备及表征

作者:郭岩宝 王德国 张嗣伟 中国石油大学(北京)机电工程学院 北京102249
分子沉积膜   原位生长   cus纳米粒子  

摘要:采用分子沉积技术制备了基础聚二烯丙基二甲基氯化铵/聚丙烯酸分子沉积(MD)膜,然后在基础IVID膜中原位反应生长了CuS粒子;利用紫外一可见分光光度计、X射线光电子能谱仪及原子力显微镜对此膜进行了表征。结果表明:在膜中原位生长的CuS颗粒为纳米粒子,且纳米粒子在膜中分布均匀,无明显团聚现象;随着反应时间的增加,纳米粒子的粒径明显增大;随着循环反应次数的增加,除纳米粒子的粒径略有增大外,纳米粒子的数量也明显增多。

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