首页 期刊 机械工程材料 离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能 【正文】

离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能

作者:田林海; 宗瑞磊; 朱晓东; 唐宾; 何家文 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室; 陕西西安710049; 太原理工大学表面工程研究所; 山西太原030024
离子束辅助磁控溅射   硬度   断裂韧度  

摘要:应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。结果表明:在相同的轰击能量(400eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400eV增加到800eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高。

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