首页 期刊 金属学报 反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO2薄膜的结构与光学性能 【正文】

反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO2薄膜的结构与光学性能

作者:李铸国 三宅正司 上海交通大学材料科学与工程学院 上海市激光制造与材料改性重点实验室 上海200240 近畿大学 大阪5778502 日本
tio2薄膜   磁控溅射   金属溅射模式   低温沉积   折射率  

摘要:采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO2薄膜,通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征。结果表明,叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性,在金属溅射模式和低于200℃的沉积条件下,制备了高质量的锐钛矿相TiO2薄膜;该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51和7.8×10^-4。

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