摘要:将铁电薄膜与CMOS工艺相集成是实现铁电存储器制备的关键所在,采用PZT材料的铁电随机存储器的工作原理、工艺流程,以及铝连线在还原性氢气氛中退火对于铁电电容特性的影响在本文中被探讨,还原性气体隔离层的几种适用材料的特性,以及隔离层制备的工艺集成这一关键问题被着重研究.
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
热门期刊服务
影响因子:0.03
期刊级别:部级期刊
发行周期:月刊
期刊在线咨询,1-3天快速下单!
查看更多>
超1000杂志,价格优惠,正版保障!
一站式期刊推荐服务,客服一对一跟踪服务!