摘要:为探讨静电雾化模式的过渡与转变机制,基于显微高速数码摄像技术对纳米流体静电雾化的显微演变过程进行了可视化研究.以不同组份的纳米流体为研究介质,精确捕捉了不同工况下纳米流体显微雾化形态的演变行为,探讨了表面张力、电导率及流量对纳米流体雾化模式转变的影响规律.结果表明:随着纳米流体质量分数的升高,纳米流体的锥射流模式区间逐渐缩小,过渡到锥射流状态的临界电场强度逐渐增大,而电导率的升高使得纳米流体更易过渡到多股射流模式;流量越大,纳米流体的雾化稳定性越不理想,达到相同雾化效果所需的电场强度越高.
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