首页 期刊 激光与红外 原位As掺杂p型碲镉汞薄膜的制备研究 【正文】

原位As掺杂p型碲镉汞薄膜的制备研究

作者:宋淑芳; 田震 华北光电技术研究所; 北京100015
p型   hgcdte   as掺杂  

摘要:非本征P型掺杂碲镉汞材料可以有效克服少子寿命偏低等问题,提高长波和甚长波红外焦平面器件的性能。本文重点阐述了As掺杂实现p型掺杂的基础性原理,以及其制备方法,为p-on-n碲镉汞材料器件研究提供依据。

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