摘要:为了研究溅射工艺对金属镀膜塑料结合力的影响,以PS塑料为基底,采用磁控溅射工艺,通过设计L9(3^4)正交试验,在不同本体真空度、不同靶基间距、不同溅射功率、不同溅射时间下对PS塑料进行镀铬,然后对镀膜塑料进行结合力测试,分磁控溅射工艺参数对结合力的影响。实验结果表明:PS塑料基底在真空室本体真空度为1.1×10^-2Pa,靶基间距为70mm,溅射功率为800W,溅射时间为120S的条件下,基膜结合力最为理想。
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