首页 期刊 舰船科学技术 等离子体刻蚀对Nafion~膜性能的影响 【正文】

等离子体刻蚀对Nafion~膜性能的影响

作者:唐金库; 巴俊洲; 蒋亚雄; 李军 中国船舶重工集团公司第七一八研究所; 河北邯郸056027
等离子体刻蚀  

摘要:介绍了不同等离子体刻蚀条件对用于电解水制氢领域的Nafion^R 117膜的性能影响。测试经表面刻蚀处理的Nafion^R膜的含水率、交换容量和电解性能,寻找最适用于Nafion^R膜表面刻蚀的条件。适宜的刻蚀有效地扩大了Nafion^R膜和催化电极之间的反应界面,并且使电极形成多孔结构,有利于产生的气体从电极上释放,降低槽电压。但过度刻蚀将破坏膜的离子簇,导致气阻增加,引起槽体性能下降。因此应严格控制射频功率和处理时间。

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