摘要：为研究寡照对设施黄瓜苗期及花果期叶片光合速率的影响,于2012年2—4月份在章丘伟丽种苗基地设计不同程度寡照处理试验.结果表明：随着寡照天数的增加,黄瓜叶片PRD-V,LsD-V,TrD-V和CD-V均呈上升趋势,差值越大,寡照对黄瓜叶片光合速率、气孔限制值、蒸腾速率和气孔导度的影响越大.寡照处理1～7d,黄瓜叶片PRD-V,TrD-V和CD-V迅速增大,寡照处理7d后,黄瓜叶片PRD-V,TrD-V和CD-V缓慢增大,并趋于稳定.寡照7d可视为设施黄瓜发生寡照胁迫的临界值,苗期黄瓜叶片光合特性受寡照影响大于花果期.

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