摘要：光催化水分解反应在光催化的研究领域具有重要地位,尤其是具有可见光水全分解性能的半导体材料最为重要。目前能够严格地按化学计量比实现可见光水全分解反应的半导体材料较少。水全分解半导体材料的匮乏是因为要实现可见光水全分解反应对半导体有两个严格的要求:1)需要半导体的禁带宽度落在1. 8~3. 2 eV的区间内;2)该半导体的导带和价带的电势要分别能够还原质子制氢和氧化水分子制氧。把紫外-可见光谱划分为400 nm以下,500 nm以下,600 nm以下,700 nm以下和780 nm以下5个区间,着重介绍了对可见光有响应的水全分解半导体材料的最新研究进展,最后对此类材料的发展趋势进行了展望。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社