首页 期刊 红外与激光工程 0.5~22μm宽光谱ZnSe单晶窗口制备 【正文】

0.5~22μm宽光谱ZnSe单晶窗口制备

作者:王瑛伟; 程灏波 北京科技大学; 材料科学与工程学院; 北京; 100083; 北京理工大学; 光电工程系; 北京; 100081
znse晶体   宽光谱   电阻加热   透过率  

摘要:采用电阻加热水平物理输运法对生长ZnSe晶体的原料进行提纯,使其纯度达到5N(99.999%).利用Bridgman单晶生长方式生长ZnSe晶体,所得晶体尺寸为φ35 mm×100 mm.在对晶体性能进行分析后,寸晶体进行切割、研磨、抛光,获得粗糙度为光学四级的晶体器件.晶体抛光后未镀膜,在0.5~22μm的波艮范围,平均透过率达到60%以上.晶体镀膜后,在波长为10.6μm处的透过率可达98%以上.

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