摘要:为了研究掺杂元素Co对SiC薄膜磁性影响,采用磁控溅射技术制备了不同Co含量的SiC薄膜。采用XRD、X光电子能谱和理性质测试系统对薄膜结构、成分和磁性进行表征。分析表明,薄膜具有3C-SiC晶体结构,随着掺杂元素Co增加,3C-SiC晶体特征峰向小角度移动。掺杂元素以Co 2+形式存在,形成CoSi第二相化合物,随着Co掺杂浓度增加,CoSi第二相化合物含量增多。磁性测试显示,掺有Co元素的SiC薄膜在室温下具有铁磁性,随着Co含量增加,薄膜的饱和磁化强度先增大后减小。掺杂Co原子进入SiC晶格后形成的缺陷是产生薄膜磁性的原因,属于掺杂缺陷诱导产生的铁磁性,而第二相化合物CoSi抑制了薄膜的铁磁性。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
热门期刊服务
Acta Pharmacologica Sinica Journal of Semiconductors Journal of Genetics and Genomics Communications in Theoretical Physics Hepatobiliary Pancreatic Diseases International Journal of Systems Engineering and Electronics China World Economy Hepatobiliary Pancreatic Diseases International Chinese Optics Letters Applied Geophysics Acta Geologica Sinica Acta Oceanologica Sinica