首页 期刊 合成化学 含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能 【正文】

含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能

作者:张立眉; 高建峰; 张立成; 王赫 中国铝业公司; 北京100082; 中北大学理学院化学系; 山西太原030051; 中国航天科工集团第四研究院; 湖北武汉430040
聚硅氧烷   席夫碱   液晶   条带织构   合成  

摘要:对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元(1);3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸(2);2经加成和酰氯化后,与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶(5),其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明:5属于近晶型条带织构;5具有较高的熔点和清亮点温度,液晶区间在180.34~251.11℃。

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