首页 期刊 光子学报 氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响 【正文】

氮气流量对磁控溅射制备类金刚石薄膜性能的影响

作者:王洪美; 李玉芳; 沈鸿烈; 翟子豪; 陈洁仪; 杨家乐; 杨艳 南京航空航天大学材料科学与技术学院; 江苏省能量转换材料与技术重点实验室; 南京211100
dlc薄膜   氮气流量   磁控溅射   透过率   退火  

摘要:采用磁控溅射法以石墨为靶材在玻璃衬底上沉积了类金刚石(DLC)薄膜,用原子力显微镜表征了不同氮气流量条件下生长薄膜的形貌,用拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪和分光光度计分析了样品的微结构、元素的价态和透光性能.结果表明:沉积的薄膜均为非晶结构.通入2sccm氮气时,薄膜的光学透过率大大提高,此时DLC薄膜内的氮元素含量为5.88%,sp3键百分比为64.65%,ID/IG值为1.81;掺氮DLC薄膜在可见光范围内光学透过率达到95.69%.随着氮气流量增加,DLC薄膜光学透过率呈现出下降的趋势.退火2h后不掺氮DLC薄膜光学透过率呈小幅度下降,而掺氮DLC薄膜的光学透过率几乎没有变化.

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