摘要：基于光楔的基本理论，提出了一种双光楔系统的设计方案。适当加大光楔座的尺寸，在两个光楔座的外缘分别均匀刻上m、n个沟槽，并把这些沟槽做上标记。将两个同样的光楔分别装在两个光楔座上。由于光线偏折发生在主截面内，可以计算出每移动一个沟槽发生的光线偏折角度变化。调试过程中首先粗略计算两个光楔座的初始位置，然后旋转光楔，直到满足特定光线转到目标位置。由于两个光楔座上的沟槽数量不等，故该方案可以达到相当高的精度。此外，该方案简单实用。

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