首页 期刊 固体电子学研究与进展 镀覆工艺对功率外壳金锡/金硅焊接的可靠性研究 【正文】

镀覆工艺对功率外壳金锡/金硅焊接的可靠性研究

作者:谢新根; 程凯; 李鑫; 孙林 南京电子器件研究所; 南京210016
功率外壳   金锡   金硅   晶格   外延生长  

摘要:通过功率外壳金硅(AuSi)焊接失效案例,研究了铜-钼铜-铜(CPC)、铜-钼-铜(CMC)为热沉材料的功率外壳镀覆工艺,包括在CPC(或CMC)材料无氧铜表面高温重新形成晶格,采用外延生长型NiCo/Au替代Ni/Au镀层。镀覆工艺优化后,功率外壳金锡(AuSn)或AuSi芯片焊接可靠性得到了显著改善。

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