首页 期刊 固体电子学研究与进展 氧化槽隔离型RC-IGBT的设计与仿真 【正文】

氧化槽隔离型RC-IGBT的设计与仿真

作者:马丽; 李伟; 李佳豪; 谢加强; 康源; 王馨梅 西安理工大学理学院; 西安理工大学自动化与信息工程学院
逆导型绝缘栅双极场效应晶体管   回跳现象   器件仿真  

摘要:提出了一种新型的RC-IGBT器件,相比于常规RC-IGBT,新型的RC-IGBT在集电极侧引入了一个类似于栅极的多晶硅沟槽结构,不同之处是沟槽底部结构没有氧化层将多晶硅与硅体区相隔离,于是可将此重掺杂的多晶硅区作为新型的RC-IGBT的集电极的N+短路区,故称为TO-RC-IGBT(Trench oxide reverse conducting IGBT)。由于集电极P+阳极层与N+短路区之间的氧化层隔离,TO-RC-IGBT并未出现常规RC-IGBT导通时的回跳现象。为了避免产生回跳现象,常规RC-IGBT的元胞宽度通常达数百微米,而TO-RC-IGBT元胞宽度只有20μm,因而TO-RC-IGBT不会出现常规RC-IGBT的反向电流分布不均匀的问题。

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