首页 期刊 固体电子学研究与进展 SiO_2钝化层对GaN基PIN结构核探测器漏电流的影响 【正文】

SiO_2钝化层对GaN基PIN结构核探测器漏电流的影响

作者:袁愿林 姚昌胜 王果 陆敏 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 江苏苏州215123 中国科学院研究生院 北京100190 北京大学深圳研究生院 广东深圳518055 北京大学 北京100871
氮化镓   pin   探测器   漏电流   钝化层  

摘要:成功地制备了有SiO2钝化层和无SiO2钝化层的GaN基PIN结构核辐射探测器,并对二者的I-V特性进行了测试。实验结果表明,SiO2钝化层的存在显著地降低了GaN基PIN结构核辐射探测器的反向漏电流,在-40V的反向偏压情况下,漏电流约有2个数量级的降低。实验过程中观测到随着反向偏压的增大,SiO2钝化层对器件反向漏电流的抑制效应更明显。建立了一种表面沟道模型解释了SiO2钝化层对漏电流的影响。

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