首页 期刊 固体电子学研究与进展 n沟道4H-SiC MESFET研究 【正文】

n沟道4H-SiC MESFET研究

作者:陈刚 南京电子器件研究所,南京210016
4h碳化硅   金属半导体场效应管   微波   宽禁带半导体  

摘要:报告了4H-SiC MESFET的研制.通过对SiC关键工艺技术进行研究,设计出初步可行的工艺流程,并且制成单栅宽120 μm n沟道4H-SiC MESFET,其主要直流特性为:在Vds=30 V时,最大漏电流密度Idss为56 mA/mm,最大跨导Gm为15 mS/mm;漏源击穿电压最高达150 V;微波特性测试结果:在fo=1 GHz、Vds=32 V时该器件最大输出功率7.05 mW,在fo=1.8 GHz、Vds=32 V时最大输出功率3.1 mW.

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