摘要：采用电子束蒸发和射频磁控溅射技术沉积了Y2O3:Eu电致发光薄膜,对膜进行了不同温度的大气热处理.用原子力显微镜(AFM)观察了Y2O3:Eu膜的表面形貌,用X射线(XRD)分析了Y2O3:Eu膜的结构,并对两种Y2O3:Eu膜的微结构和表面形貌进行了比较.结果表明,射频磁控溅射Y2O3:Eu膜与电子束蒸发Y2O3:Eu膜相比,结构更致密,表面更平滑,而且,在900°C高温热处理后,溅射膜呈现单斜晶系结构,具有该结构的Y2O3:Eu膜适宜于作电致发光膜.

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