摘要：采用多靶磁控溅射系统,使用AlCrTiZrNb合金靶和Si靶制备了不同Si3N4厚度的(AlCrTiZrNb)N/Si3N4纳米多层膜,样品基底为单晶硅。通过X射线衍射仪(XRD)、高透射电子显微镜(HRTEM)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕仪对样品进行微观组织的表征和力学性能的测量。实验结果表明,随着Si3N4层厚度的增加,样品的结晶度和力学性能均先增加后减小,XRD图谱中出现面心立方相结构。在Si3N4层厚度为0.5nm时,(111)衍射峰强度达到最大值。说明薄膜结晶度最强,薄膜的硬度和弹性模量也达到最高值,分别为30.6,298GPa。通过对样品的横截面的形貌观察,发现当Si3N4层厚度为0.5nm时,多层膜的多层结构生长良好。在(AlCrTiZrNb)N层的模板作用下,Si3N4层从非晶态转变为面心立方结构,与(AlCrTiZrNb)N层之间形成共格外延生长结构,(AlCrTiZrNb)N/Si3N4纳米多层膜的强化可归因于两调制层之间形成的共格界面。

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