摘要：采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P（111）单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜（FESEM）、三维轮廓仪、X射线衍射仪（XRD）、X射线电子能谱仪（XPS）、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查。结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的沉积速率降低,Al/Ti比率先升高后迅速降低;薄膜主要由TiN立方晶构成,且随N2流量的升高晶粒尺寸减小,柱状晶结构变疏松。在氮气流量为20mL/min时,薄膜具有最高的硬度及结合力。

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