摘要：研制了一种与掩膜光刻机相配套的新型掩膜管理控制系统。系统硬件由1个4自由度机械手、2个版库、粗预对准机构、精细预对准机构、PIE控制器和伺服驱动器等构成；系统软件由基于VC的上层管理程序以及基于梯形图的底层流程控制程序构成，其中上掩膜版和卸掩膜版是流程控制的主要组成部分。介绍了四象限光电探测器的对准工作原理和掩膜版的粗、精细预对准方法，实验测试了上、卸掩膜版的节拍，粗、精细预对准时间和掩膜版经过精细预对准后的重复定位精度，讨论了激光器和四象限光电探测器相对位姿的标定方法，并指出了该系统的特点。实验结果表明，该系统性能稳定，主要指标能够满足掩膜光刻机的实际生产要求。

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