摘要：四氢化硅是一种常见的工业原料,是一种提供硅组分的重要气体源,可用于制造高纯度单晶硅、多晶硅、异质硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅等各种硅化物。四氢化硅在临界温度256℃）和极高的压力下（96和120 GPa）可作为超导体使用〔1〕。由于四氢化硅的高纯度和能实现精细控制,已经成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体〔2-3〕。四氢化硅的主要毒性是刺激作用,

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