首页 期刊 电子元件与材料 射频鞘层中等离子体浓度对离子动量的影响 【正文】

射频鞘层中等离子体浓度对离子动量的影响

作者:李志刚; 丁玉成 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室; 陕西西安710049
半导体技术   等离子体   鞘层   射频   离子  

摘要:利用射频鞘层模型,推出了离子到达被加工材料表面时的动量的表达式.利用表达式分析了离子轰击材料表面的动量与等离子体浓度的关系.理论分析与实验数据有较好的吻合.等离子体浓度的增大对鞘内离子动量起抑制作用:随等离子体浓度(10^15-10^16m^-3)增加,离子动量(10^-22-10^-21kg·m·s^-1)减小.等离子体浓度较小(约〈3×10^15m^-3)时,对离子动量有较显著的影响;随等离子体浓度增大(约〉3×10^15m^-3),其作用越来越平缓。

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