首页 期刊 电子设计应用 绝缘膜薄膜化达刭极限 希望寄托于高k材料 【正文】

绝缘膜薄膜化达刭极限 希望寄托于高k材料

lsi设计   漏电流   阈值   薄膜   人员  

摘要:机械设计人员和LSI设计人员减小漏电流的对策,主要针对亚阈值漏电流。但是,对于65nm及以下的工艺,栅漏电流将使机械设计人员和LSI设计人员面临更大挑战。

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