首页 期刊 电子测试 193纳米微影湿浸式技术暂居较佳发展位置 【正文】

193纳米微影湿浸式技术暂居较佳发展位置

作者:陈俊儒
ic制造   193纳米   微影湿浸式技术   特征尺寸   极短紫外光微影  

摘要:微影工艺技术在IC制造中一直扮演着举足轻重的角色,随着IC产品技术需求的提升,微影技术也需不断地提高分辨率以制作更微小的特征尺寸(feature size).

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